没有真空, 就不可能有可再生能源. 例如光伏发电 PV, 这是一种广为人知的发电方法, 即利用太阳能电池, 通过光伏效应, 将来自太阳的能量转换为电子流, 从而产生电能.

太阳能电池技术有多种类型, 主要技术之一是基于薄膜沉积. 该技术的主要优势是太阳能电池生产中的材料消耗低. 除诸如碲化镉 CdTe 之类材料外, 铜铟镓硒化物 CIGS 也经常用于吸收层. 这些层可以沉积在玻璃等非柔性基板上, 或者金属带材或箔片等柔性基板上, 又或柔性薄玻璃上, 然后须将基板装入一个大型真空室内. 在该真空腔室内会进行多种 PVD 工艺, 例如溅射或蒸发, 以生成多层太阳能电池. 取决于不同工艺, 为了沉积这些层, 需要 10-3 至 10-6 hPa 范围内的真空. 由于表面积较大, 高抽速是必不可少的并且真空需要洁净无碳, 以确保高品质涂层.

薄膜沉积真空系统应用要求
维护间隔长, 正常运行时间延长
无碳真空
高抽速, 快速抽空

上海伯东推荐德国 Pfeiffer 真空泵典型配置

型号	大抽速涡轮分子泵 HiPace 2300 U	全磁浮分子泵 ATH 2804 M	罗茨泵组 CombiLine RH 2404 L
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进气口	DN 250 ISO-F	DN 250 ISO-F	DN 160 ISO-F
氮气抽速	1900 l/s	2350 l/s	2348 m³/h
极限真空	1X10-7 mbar	< 1X10-8 mbar	1X10-2 mbar

溅射或蒸发工艺要求
满足多层膜的制备
维护间隔长
膜层致密, 不易脱落

通过使用上海伯东美国 KRi 离子源可实现基板清洁和加速镀膜材料的溅射速度, 并且离子源在材料沉积过程中可帮助沉积并使沉积后的薄膜更为致密, 膜基附着力更好,  膜层不易脱落. 其中 RF 射频离子源提供高能量, 低浓度的离子束, 离子源单次工艺时间更长, 适合多层膜的制备和离子溅镀镀膜工艺. 上海伯东是美国 KRi 离子源中国总代理.

上海伯东美国 KRi 射频离子源 RFICP 参数:

型号	RFICP 40	RFICP 100	RFICP 140	RFICP 220	RFICP 380
Discharge 阳极	RF 射频	RF 射频	RF 射频	RF 射频	RF 射频
离子束流	>100 mA	>350 mA	>600 mA	>800 mA	>1500 mA
离子动能	100-1200 V	100-1200 V	100-1200 V	100-1200 V	100-1200 V
栅极直径	4 cm Φ	10 cm Φ	14 cm Φ	22 cm Φ	38 cm Φ
离子束	聚焦, 平行, 散射
流量	3-10 sccm	5-30 sccm	5-30 sccm	10-40 sccm	15-50 sccm
通气	Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他
典型压力	< 0.5m Torr	< 0.5m Torr	< 0.5m Torr	< 0.5m Torr	< 0.5m Torr
长度	12.7 cm	23.5 cm	24.6 cm	30 cm	39 cm
直径	13.5 cm	19.1 cm	24.6 cm	41 cm	59 cm
中和器	LFN 2000

薄膜沉积应用于众多零部件产品的生产, 例如眼镜, 手机, 屏幕显示器等. 一般通过物理气相沉积 PVD 或化学气相沉积 CVD 实现. 薄膜直接施加到零部件表面上, 总厚度小于 10 µm. 薄膜沉积需要在真空环境下进行. 上海伯东提供德国 Pfeiffer 真空产品和美国 KRi 考夫曼离子源助力薄膜沉积工艺发展.

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