KRI 射频离子源辅助沉积镀制385nm紫外带通滤光片_机械环保招商_商机

KRI 射频离子源辅助沉积镀制385nm紫外带通滤光片

2023-11-14 16:32 浏览:4

带通滤光片也叫干涉滤光片, 主要起到过滤不想要的杂光, 只让想要的光通过的作用. 385nm 紫外带通滤光片是带通滤光片中一款 UV 紫外波段的滤光片, 广泛应用于荧光检测, 警用多波段滤光片. 它具有高透过率, 其深截止可保证探测器接收不到其它波长的光, 因此可保证图像的高亮度和更大的信噪比. 385nm 紫外带通滤光片采用多层硬膜经离子辅助沉积纳米材料高真空蒸发而成, 膜层致密性好, 成像清晰度高, 厚度薄. 为了得到更优质效果, 经过推荐上海伯东某客户采用光学镀膜机加装美国原装进口 KRi 大尺寸射频离子源 RFICP 380 镀制 385nm 紫外带通滤光片. 验证过程及结果如下：

应用方向：美国 KRi 射频离子源辅助沉积镀制 385nm 紫外带通滤光片

离子源类型：美国 KRi 射频离子源 RFICP 380

镀膜设备：1米7 的大型蒸镀设备

应用领域：UV 臭氧灯、UV 洗净灯、UV 光分解灯、UV 消毒灯、UV 固化灯、UV-LED 灭菌、UV 紫外光合成灯、荧光分析仪、荧光显微镜、生物芯片、酶标仪、工业相机、分光光度计、医用理化分析设备、刑侦检测、光学仪器、科学摄影、生命科学检测仪器等

光学镀膜机加装美国原装进口 KRi 大尺寸射频离子源 RFICP 380 镀制 385nm 紫外带通滤光片, 可以获得很小的 Ta2O5 与 SiO2 材料在紫外的吸收率, 沉积过程稳定, 加以合理的膜系设计, 能达到行业顶级水准.

上海伯东美国 KRi 射频离子源 RFICP 系列, 无需灯丝提供高能量, 低浓度的离子束, 通过栅极控制离子束的能量和方向, 单次工艺时间更长! 射频源 RFICP 系列提供完整的系列, 包含离子源本体, 电子供应器, 中和器, 自动控制器等. 射频离子源适合多层膜的制备, 离子溅镀镀膜和离子蚀刻, 改善靶材的致密性, 光透射, 均匀性, 附着力等.

射频离子源 RFICP 系列技术参数:

型号	RFICP 40	RFICP 100	RFICP 140	RFICP 220	RFICP 380
Discharge 阳极	RF 射频	RF 射频	RF 射频	RF 射频	RF 射频
离子束流	>100 mA	>350 mA	>600 mA	>800 mA	>1500 mA
离子动能	100-1200 V	100-1200 V	100-1200 V	100-1200 V	100-1200 V
栅极直径	4 cm Φ	10 cm Φ	14 cm Φ	22 cm Φ	38 cm Φ
离子束	聚焦, 平行, 散射
流量	3-10 sccm	5-30 sccm	5-30 sccm	10-40 sccm	15-50 sccm
通气	Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他
典型压力	< 0.5m Torr	< 0.5m Torr	< 0.5m Torr	< 0.5m Torr	< 0.5m Torr
长度	12.7 cm	23.5 cm	24.6 cm	30 cm	39 cm
直径	13.5 cm	19.1 cm	24.6 cm	41 cm	59 cm
中和器	LFN 2000

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